超纯水:半导体超纯水,是芯片制造全流程用量最大的工艺介质,用于晶圆清洗、光刻后冲洗、蚀刻后漂洗、设备管路冲洗。超纯水过滤就是多级净化去除水中颗粒物、胶体、细菌、TOC、离子,把水纯化到电阻率≥18.2 MΩ・cm @25℃,供给 Fab 各湿法、光刻工序使用。
滤材选择:超纯水接近中性,但溶出、析出、纤维脱落是最大风险,对滤芯要求极低可萃取物、极低金属析出。
1.PP 聚丙烯滤芯:预处理粗滤、循环管路 0.2μm 过滤,性价比高;亲水性一般,需要充分润湿;
2.PES 聚醚砜滤芯:UPW 循环、终端 POU 常用,亲水性好、低析出、细菌截留强;
3.PTFE:多用于特殊工况,疏水,润湿麻烦,一般不作为常规超纯水主滤;