湿式蚀刻

(1)湿式蚀刻（Wet Etch Filtration）：湿式蚀刻（湿法刻蚀）是利用腐蚀性化学药液，选择性腐蚀晶圆 / 基板表面薄膜的工艺；湿式蚀刻过滤就是对蚀刻槽循环药液、供液管路、终端喷淋药液进行连续过滤，去除药液内固体颗粒、反应残渣、胶体沉淀物，保障蚀刻均匀性与良率的流体净化工艺，广泛用于半导体晶圆、PCB、MEMS 等行业。

滤材的选择：蚀刻药液强酸强碱，滤材必须耐化学腐蚀、低溶出、不脱落纤维：
A.PTFE（聚四氟乙烯）囊式 / 折叠滤芯：半导体主流，耐 HF、BOE、热磷酸，极低金属析出，适合先进制程；
B.PP 聚丙烯：用于温和蚀刻液、PCB 铜蚀刻，成本低；不耐强氧化性酸；
C.PES 聚醚砜：适合部分酸碱，但 HF 体系不能使用；
D.壳体 / 滤壳：PFA、PTFE 内衬，严禁普通不锈钢，避免金属溶出污染晶圆。